平面研磨拋光設(shè)備生產(chǎn)工藝流程平面研磨拋光設(shè)備大致有以下7種生產(chǎn)工藝流程,每個(gè)流程都有控制精度要求,每個(gè)環(huán)節(jié)都必不可少,少一樣都是能決定精度的好與壞。1、平面研磨拋光設(shè)備平整度: 工件的平整度取決于磨盤的平整度,隨著加工領(lǐng)域的不斷深化及精度和效率要求越來越高:從鑄鐵盤、合成盤、銅盤、純錫盤、樹脂盤發(fā)展到金剛石盤,并通過各種方法把盤的平面訂修到達(dá)1um。2、平面研磨拋光設(shè)備粗糙度: 表面粗糙度取決于磨料顆粒的大小、形狀和磨盤的材料, 以及工件材質(zhì)及硬度。3、平面研磨拋光機(jī)粗磨: 利用較粗顆粒度的磨料在